26.高纯硅晶体是信息技术的重要材料。
(1)在周期表的以下区域中可以找到类似硅的半导体材料的是______(填字母)。
A.过渡元素区域
B.金属和非金属元素的分界线附近
(2)工业上用石英和焦炭可以制得粗硅。已知:
写出用石英和焦炭制取粗硅的热化学方程式 。
(3)某同学设计下列流程制备高纯硅:
①Y的化学式为____________。
②写出反应Ⅰ的离子方程式_______________________。
③写出反应Ⅳ的化学方程式_______________________。
④步骤Ⅵ中硅烷(SiH4)分解生成高纯硅,已知甲烷分解的温度远远高于硅烷,用原子结构解释其原因是_______________________。
(4)将粗硅转化成三氯硅烷(SiHCl3),进一步反应也可以制得粗硅。其反应:
SiHCl3 (g) + H2(g)Si(s) + 3HCl(g),不同温度下,SiHCl3的平衡转化率随反应物的投料比(反应初始时各反应物的物质的量之比)的变化关系如图所示。下列说法正确的是____(填字母) 。
A.该反应是放热反应
B.横坐标表示的投料比应该是
C.该反应的平衡常数随温度升高而增大
D.实际生产中为提高SiHCl3的利用率,可以适当增大压强
12.下列叙述正确的是( )
25.在下列各变化中,E为常温下无色无味的液体,F为淡黄色粉末,G为常见的无色气体(反应条件均已省略)。
回答下列问题:
(1)写出H的电子式:________________。
(2)若反应①在加热条件下进行,A为单质,C为无色有刺激性气味的气体,D为无色无味的气体,且C、D两种气体均能使澄清的石灰水变浑浊,则反应①的化学方程式是_______________。
①实验需要检验出C、D、E三种气体产物,三种气体检验的先后顺序是__________(用化学式填空),在检验D气体前,需除去C气体,所用试剂是_______,反应的离子方程式是_____________________________。
②已知:A(s)+O2(g) =AO2(g) △H=-393.5kJ·mol-1
2A(s)+O2(g) =2AO(g) △H=-221.0kJ·mol-1
则AO的燃烧热的热化学方程式________________.
③AO2在自然界循环时可与碳酸钙反应,碳酸钙是一种难溶物质,它的Ksp=2.8×10-9。CaCl2溶液与Na2CO3溶液混合可形成CaCO3沉淀,现将等体积的CaCl2溶液与Na2CO3溶液混合,若Na2CO3溶液的浓度为2×10-4mol/L,则生成沉淀所需CaCl2溶液的最小浓度为_________。
(3)若反应①在溶液中进行,A是一种常见一元强碱,B是一种酸式盐,D是一种气体,且B遇盐酸产生能使品红溶液褪色的气体,在加热条件下,当A过量时,反应①的离子方程式是_____________。
(4)若反应①在溶液中进行,A是一种强酸,B是一种含有两种金属元素的盐,且B的水溶液显碱性,A、B均由短周期元素组成,当A过量时,C及D均易溶于水,则A过量时反应①的离子方程式是_______________。
8.向四支试管中分别加入少量不同的无色溶液进行如下操作,结论正确的是( )
(1)B
(2)SiO2(s)+2C(s)==Si(s)+2CO(g) ΔH =+638.4 kJ/mol
(3)
①H2SiO3或H4SiO4
②SiO2+2OH-==SiO32-+H2O
③
④周期表中,硅和碳属于同主族,原子半径Si大于C,硅元素的非金属性弱于碳元素,硅烷的热稳定性弱于甲烷
(4)BC
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